バイポーラとＭＯＳ

半導体を大きく分けると、バイポーラ型とＭＯＳ型になります。

それぞれの仕組みは６～８章で説明しますが、前章で述べた、電子と正孔という２つのキャリアで説明するなら、その両方を使うのがバイポーラ型であり、基本的には片方しか使わないのがＭＯＳ型といえます。

バイポーラとは２極性ということで、まさにその２種類のキャリアを使う方式ということをそのまま名称に取り入れています。

ｐ型半導体とｎ型半導体とを接して並べた構造をｐｎ接合といいますが、その特徴をうまく使った仕組みです。

バイポーラは応答速度が速いというメリットがあります。

一方ＭＯＳというのは、Metal Oxide Semiconductor（金属酸化膜半導体）の略です。

こちらは１種類のキャリアという特徴を意味した命名ではなく、基本構造の成分をそのまま名称にしたような感じです。

すなわち、金属と半導体との間に、絶縁のための酸化膜をはさんだ形です。

ＭＯＳは消費電力が低いというメリットがあります。

ＭＯＳはさらに大きく３つに分類されます。

キャリアとして自由電子を使うＮＭＯＳ、正孔を使うＰＭＯＳ、そしてその両者を組み合わせたＣＭＯＳです。

中でもＣＭＯＳは高速性と低消費電力とを比較的よく両立させることができ、現在最もよく使われているタイプの半導体です。

ＣＭＯＳを用いた低消費電力イメージセンサも、ＣＣＤの座をおびやかすくらいにまで発達してきています。

ちなみにＮＭＯＳといってもｐ型半導体を使わないわけではなく、むしろ体積的にはｐ型半導体が大半を占めています。

逆にＰＭＯＳは主としてｎ型半導体からできています。